钯蚀刻剂TFP用于在阴极溅镀、蒸发和化学沉积膜上刻制高分辨率图案。这些膜通常用作硅片镍和金膜体系的阻挡层。

 

 

 

钯蚀刻剂1：1A和B适于蚀刻钯金属薄膜，钯蚀刻剂1：1是一个两组分体系，在使用前两组分要进行等量混合，和包括光刻胶在内的广范围材料都能匹配使用。蚀刻速率为中等速率。

含氰材料需要作特殊处理

 

 

铂蚀刻剂1：1A和B适合用来蚀刻铂金属薄膜，铂蚀刻剂1：1是一种两组分体系。在使用前两组分必须进行等量混合。和包括光刻胶在内的广范围材料具有良好匹配性。蚀刻速率中等。