NBD-PECVD1500-80TID3ZY PECVD（等离子增强化学气相沉积）技术是借助于等离子体的辉光放电使得含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜生长的一种制备技术，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉积；高温炉采用的是高纯硅碳棒加热的原理，可以实现高温烧结，适用于大多数材料的热处理以及熔炼工艺，整体采用国际先进制造工艺，并且从美学艺术角度出发，根据人体安全的角度进行设计。它采用PLC控制，触摸屏操作。